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机译:热aLD沉积al2O3薄膜沉积温度对硅表面钝化的影响
Neha Batra; Jhuma Gope; Vandana; Jagannath Panigrahi; Rajbir Singh; P. K. Singh;
机译:热ALD沉积Al2O3薄膜的沉积温度对硅表面钝化的影响
机译:沉积温度对ALD和PECVD法合成Al2O3薄膜c-Si表面钝化的影响
机译:热ALD沉积Al掺杂ZnO薄膜对结晶硅表面的钝化。
机译:沉积和退火温度对ALD Al2O3薄膜硅表面钝化的影响
机译:电子增强原子层沉积(EE-ALD),用于室温生长氮化镓,硅和氮化硼薄膜
机译:不同退火温度下硅上热原子层沉积Al2O3膜的钝化机理
机译:高温热ALD氮化硅膜
机译:高温热ALD氮化硅薄膜
机译:高温热ALD硅氮化膜
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